武汉光谷实验室研发出高性能量子点光刻胶

据消息,近日,湖北光谷实验室、华中科技大学集成电路学院和光电子器件与三维集成团队的张建兵等人与广纳珈源(广州)科技有限公司合作,研发出高性能量子点光刻胶(QD-PR),其蓝光转换效率达到44.6%(绿色)和45.0%(红色),光刻精度达到1um,各项性能指标为行业领先水平。

英飞凌全球最大200mm碳化硅晶圆厂正式启用

自英飞凌官网获悉,当地时间8月8日,英飞凌宣布其位于马来西亚的新晶圆厂一期项目(即居林工厂第三厂区)正式启动运营,建设完成后该工厂将成为全球最大且最具竞争力的200毫米碳化硅功率半导体晶圆厂。