尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机
自尼康官网获悉,10月22日,尼康(Nikon)宣布其正在开发一款分辨率为1微米(L/S)、高产能的数字光刻设备,用于先进的半导体封装应用。该产品计划在尼康2026财年内发布。
芯闻快讯
2024年10月25日
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