ASML High-NA EUV光刻机取得突破,成功印刷10nm线宽图案
据外媒,4月18日消息,荷兰阿斯麦 (ASML) 公司宣布,其首台采用0.55数值孔径 (NA) 投影光学系统的高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机已经成功印刷出首批图案。
芯闻快讯
2024年04月18日