行业首发 I 思锐智能全谱系离子注入机亮相SEMICON CHINA
3月26日,在全球半导体盛会SEMICON CHINA上,思锐智能携全谱系离子注入机(IMP)重磅亮相,协同40年技术积累的原子层沉积(ALD)设备,展现了公司在半导体关键装备领域的技术实力。
芯闻快讯
2025年03月31日