ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备

3月9日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）上午官网发布《关于额外出口管制的声明》。声明表示，荷兰政府公布了更多关于即将实施的半导体设备出口限制的信息。这些新的出口管制着重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和浸没式光刻工具。

ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”

尽管 ASML 尚未收到有关“最先进”确切定义的任何其他信息，但 ASML 将其解释为“关键沉浸”。

荷兰政府在3月8日表示，计划对半导体技术出口实施新的管制。据悉，决定是由荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher在致荷兰议会的一封信中宣布的。信中称，这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。尽管信中并没有指名道姓地点出ASML和其合作伙伴，但是ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。