英特尔18A工艺计划上半年开始流片

自英特尔官方网站消息，近日，英特尔更新了其半导体Foundry相关页面的介绍，并宣布其Intel 18A工艺准备就绪，计划于今年上半年开始流片。

据悉，18A制程的成熟标志着英特尔IDM 2.0战略的重大突破。采用先进的纳米级工艺节点，旨在提升芯片的性能和能效。相较于先前的工艺，能够在更小的芯片面积上集成更多的晶体管，从而在保持或降低功耗的同时显著提高计算能力。这一特性对于推动数据中心、人工智能（AI）及自动驾驶等领域的发展至关重要，能够为这些需求日益增长的应用提供强大支持。