据报道，日前，拓荆科技召开2025年第一季度业绩说明会，公司董事长吕光泉等管理层就经营状况及行业前景回应投资者关切。
拓荆科技董事长吕光泉介绍扩产计划时表示，公司高端半导体设备产业化基地已开工建设，子公司拓荆键科（海宁）正规划新研发与产业化基地。管理层强调将持续做深做精薄膜沉积及键合设备主业，围绕前沿技术布局新产品，并严格履行并购重组等重大事项的信披义务。
据介绍，拓荆科技作为国内薄膜沉积设备与混合键合设备的领军企业，公司已形成半导体薄膜沉积设备、混合键合设备两大产品系列，其中薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机并列为芯片制造三大核心设备。
